Как построить полупроводниковую фабрику
Фабрика для производства самых современных микросхем стоит около $25 млрд и требует редкого оборудования для Фотолитография в экстремальном ультрафиолете ( Extreme ultraviolet lithography, EUV ) использует свет экстремального ультрафиолетового диапазона с длиной волны около 13,5 нм, то есть почти рентгеновское излучение. " data-abbr="EUV">EUV -литографии, которое производит только одна компания в мире, ASML. Причём всего 40–50 машин в год, а заказы расписаны на несколько лет вперёд. Опыт строительства новой фабрики Intel в 2024 году показывает, почему такое не может позволить себе Китай или другая страна. Это самый передовой хайтек, основанный на последних достижениях физики, на коммерческих секретах и производственных ноу-хау. Читать далее